第一百零四章 傳統的手段
第一百零四章 正所謂，數理化不分家。
顧律是數學和物理的雙料博士，沒有理由，化學能夠差到哪去。
納米二氧化鈰粉末的制備，非常簡單。
首先，稱取一定量的Ce(NO3)3-6H2O 和六亞甲基四胺，配置成1：5的混合液。
第二步，混合液置于75攝氏度恒溫水箱中水浴保溫半小時。
第三步，在室溫環境下陳化，用離心法分離沉淀。
最后一步，將沉淀洗滌后置于真空干燥箱中，在80攝氏度下烘干。
這樣，經過以上四步之后，就可以得到納米二氧化鈰超細粉體。
二氧化鈰粉體呈球形，徑粒分布較均勻，徑粒約為10納米。
更重要的是，二氧化鈰質地較為柔軟，作為拋光磨料再也適合不過。
穿戴好白色的實驗服，戴好手套口罩，顧律有條不紊的開始操作。
將近一個小時后，顧律提著一個藍色的塑料小瓶，走出房間。
“顧先生，怎么樣？”一直在門外等候的林經理走上前來問道。
“一切順利。”顧律摘下口罩，笑呵呵的把手中的塑料瓶遞給張經理，“我把實驗服換下來，然后我們再一塊去樓下車間試試效果。”
幾分鐘后，顧律和張經理兩人再次走進車間。
黃師傅拿著一塊硅晶片板，一臉苦笑的走過來，“和顧先生說的一樣，這次的精度測試和之前相同，表面粗糙度都在1納米以上。”
顧律接過那塊硅晶片，放在手中翻轉仔細看了一下，然后用手指感受了一下觸感，點點頭，“應該就是拋光液的原因，正好二氧化鈰拋光液已經制備出來了，再上機試一下吧。”
“我想這次，結果肯定會和之前大不相同的。”顧律嘴角上揚，語氣中帶著無比的自信。
拋光機夾持住硅晶片，接著放入納米二氧化鈰粉末拋光液，最后，按下啟動按鈕。
機器開始運轉。
顧律抱著胳膊，雙眼緊盯著儀器。
同時，腦海中不停回憶著在普林斯頓大學圖書館中，看過關于這方面的內容。
在單硅晶片的化學機械拋光過程中，是主要存在化學腐蝕作用和機械磨削作用。
材料的去除，首先源于化學腐蝕作用。一方面，在拋光過程中，硅片表面局部接觸點產生高溫高壓，從而導致一系列復雜的摩擦化學反應。
納米二氧化鈰拋光液，其具有較高堿性組分和較柔軟的納米磨料顆粒。
在這兩者作用下，使硅片表面形成腐蝕軟質層，從而有效地減弱磨料對硅片基體的刻劃作用，提高拋光效率和拋光表面質量，相應的，提高拋光后硅晶片的精度。
半個小時的時間，一晃眼就過去。
機器和硅晶片摩擦的聲音逐漸減小，直到消失。
設備停下后，張經理和黃師傅齊齊把目光看向顧律。
顧律笑了笑，“拿出來吧。”
黃師傅小心翼翼的將通過使用二氧化鈰拋光液制得的硅晶片取出來。
“你們用什么設備看？”顧律掃視了一眼，發現這邊并沒有顯微鏡之類的設備。
“樓上有一臺原子力顯微鏡。”張經理笑著開口。
原子力顯微鏡？
顧律知道，這玩意似乎貴的很。
再次回到那棟五層小樓，不過那臺原子力顯微鏡就在一樓，倒是省去了爬樓的功夫。
走進那棟十幾平的小房間，顧律一眼就看到了張經理口中所說的那臺原子力顯微鏡。
“米國DI公司產的Mutimode SPM版原子力顯微鏡？”在實驗室待過一段時間的顧律，一眼就認出來。
“你們買的？”顧律扭頭看向張經理。
據他所知，這臺顯微鏡可不便宜，市場價，大概在二三十萬元！
就算是大部分高校的實驗室，都買不起這臺設備。
張經理苦笑著搖搖頭，“租的。”
顧律：“…”
好吧，看這家公司連買二十多萬的拋光機設備都心疼成這樣子，讓他們買一臺二十多萬的顯微鏡幾乎不可能。
但租的話…似乎也不便宜啊！
顧律湊近顯微鏡看了一眼。
“這是個殘次品。”還未等顧律看出來什么，張經理主動問顧律解釋，“這臺是淘汰下來的，幾百塊錢一年，很便宜，我們就租下來了。”
顧律：“…”
真的是毫不羞愧的直接承認下來了呢。
張經理似乎并不在意承認自己公司就是窮的一個事實。
“咳咳。”顧律尷尬的咳嗽了一下，“我們還是抓緊時間看一下數據吧。”
“顧先生，我來，還是你來。”黃師傅雙手捧著那塊硅晶片。
顧律戴上手套，搓搓手，“我來吧。”
原子力顯微鏡，回國之后顧律已經好久沒有摸過了。
好不容易有這個機會，顧律還是蠻想過過手癮的。
顧律拉過一把椅子，臉上帶著淡淡的期待坐下。
然后打開光源，小心翼翼的把顯微鏡移到自己面前。
不過，顧律很快就后悔了。
怪不得張經理說這臺顯微鏡是個殘次品。
特么的實在是太坑了啊！
顧律這邊移動一下探針，顯示器那邊，足足卡了將近三十秒，才彈出一個數據。
移一下，卡三十秒，移一下，卡三十秒。
這三十秒里，顧律就和那一閃一閃的顯示器大眼瞪小眼。
光是調試設備，顧律就用了十多分鐘。
“顧先生，這臺顯示器有點不太靈敏，所以，有時候，要采用一些傳統暴力手段。”黃師傅在一旁訕笑一下，然后走上前，右手成掌，猛地一下拍在顯示器上。
砰——！
沉悶的聲音響起，顯示器畫面模糊一下后，瞬間浮現出最新的數據。
顧律：“…”
這方式，確實夠傳統！
顯示器卡頓怎么辦，多半是欠揍了，拍一下就好啦！
于是，在稍顯閉塞的房間里，出現了一副顧律猛拍顯示器的畫面。
和顯示器折騰了半小時后，屏幕上終于顯示出這塊硅晶片的數據。
Ra=0.089，RMS=0.113.
在1微米*1微米范圍內，微觀表面的粗糙度，降低到驚人的0.089納米。
比之前測得的最低值1.06納米，足足降低了12倍！
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