第一四七章 尋找外援

　　芯片加工廠的事按部就班的進行，王岸然也放下一塊大石頭。

　　不過這只是開始，王岸然要買的不僅僅是一攤子設備，二是要消化技術。

　　就那光刻機來說，這套設備使用的是尼康生產的gkl107

　　436納米波長紫光光源，用的是高壓汞燈過濾之后色波長。

　　這套設備用不了幾年就會被淘汰。

　　相比于市場上更為先進的248納米的紫光光源光刻機落后了兩代，中間相隔了一代365納米光源光刻機。

　　要知道365納米和248納米光源，中間隔了一道鴻溝。

　　436納米紫光光源演進到365納米紫光光源，只能說是技術的進步，所用的光源都是高壓汞燈。

　　而到了248納米紫光光源，那就是技術的換代，所用的光源是鹵素激光光源。

　　而且，王岸然記得很清楚，在1995年，193納米紫光激光光源的光刻機在技術上已經取得重大突破，在今后的幾年也將投入市場。

　　要知道，芯片生產的核心裝備光刻機，每一次更新換代付出的代價，至少是百億美的數量級金，而且越往后越難。

　　歷史上，193納米紫光光刻機之后的換代，玩死了一大批老牌光刻機廠家。

　　原本全世界可以生產光刻機的有十三家，日本就有四家，到157納米光刻機之后，也就ASML能勉強活下來，其他一大批廠家要么倒閉，要么半死不活。

　　島國最頂尖的尼康和佳能，也因為方向錯誤，在157納米干式光刻與ASML浸沒式光刻機在競爭中落敗。

　　再加上ASML又搞出個雙工作臺技術，大大提高了芯片的生產力和精度。

　　讓兩大巨頭徹底從生產高端光刻機，淪為售賣中低端產品，再也無力最頂尖的極紫光光刻機的競爭。

　　到了9102年，全世界的高端市場，只養活了一家ASML。

　　事實上，如果沒有臺積電，Intel，三星等芯片巨頭的輸血，碩果僅存的ASML也將被市場的浪潮吞沒，光是臺積電和三星，在2016年就投了20億歐元，砸在ASML身上。

　　難，真難，也不一定會取得成功，光刻機的研究就是吞金巨獸，有沒有意義？

　　這是肯定的。

　　這不是錢的事。

　　但光刻機，光刻膠，蝕刻機，封裝設備，光憑華芯科技一家，吃透這些技術基本上不可能，這需要調動全社會的力量。

　　在清大的光學研究所，王岸然生了一肚子的悶氣。

　　劉本清教授在激光光源上耕耘一生，在1971年，參與了我國第一臺紫光干涉激光的研制，在1980年，負責國家第一臺接近式JL_01光刻機的研制。

　　他實在受不了，自己的研究工作，會受一個毛頭小伙子的指點。

　　而王黯然也是氣不過，自己在光學研究所投了上千萬，現在好了，就是增加一個浸沒式光刻機的探討研究，就這么難？

　　“王總，我再重申一遍，浸沒式光刻機雖然在理論上可以縮小投影圖，不過在實際操作上，已經被證明了，這套技術行不通，研究下去就是浪費錢。”

　　“劉教授，我只是建議在這上面再做一些探討，而且這項技術并沒有證明行不通，而是還沒有行通。”

　　劉本偉不屑一顧。

　　“王總，我跟你說這句話是實事求是的，浸沒式光刻技術在七八年前就有立項，其中的困難跟你說，你也不清楚。

　　我只想說明一點，有那個精力研究浸沒式光刻機，把精力投到紫光激光光源上，效果會好的多。”

　　看來在這個時代，大家的普遍意識就是，搞浸沒式光刻機是條絕路。

　　王岸然深吸一口氣，犟鴨子嘴硬的科研人員太多了，自己當初也是他們的一員，跟劉本清生氣，就是跟自己生氣。

　　這些人要是犯氣牛脾氣來，能把天捅破，唯一的解決之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。

　　“超高純度折射率液體，往往水里有一粒微塵，或者一個氣泡，或者多了一些離子，都可能對加工造成巨大的影響。

　　再加上高純水浮在晶片上，目前的光刻膠中的分子會溶進水中，造成液體介質污染，劉教授，我說的沒錯吧！”

　　劉本清在王岸然說第一句話的時候就愣住了，什么情況，他懂。

　　待到王岸然將兩大技術難點合盤而出，劉本清說道：“王總，你…？”

　　王岸然裝著沒看見，背過身，繼續說道：“除了兩大問題，在實際操作中，也會面臨平臺的穩定性，校準系統，曝光時間等問題，需要按每臺機器的類型多次調試…”

　　劉本清想給王岸然豎個大拇指，說一聲牛，這些資料可不怎么容易找到。

　　“王總，既然你知道浸沒式光刻機的缺陷，還需要繼續堅持嗎？”

　　王岸然點點頭，說道：“為什么不！劉教授，高純水介質我們可以自己研發也可以跟外國合作，厭水光刻膠我們也可以這么辦，當然，也可以考慮在光刻膠上再噴一道絕水薄膜，沒有試過，怎么知道不行！”

　　“我們試過很多種辦法！”

　　“那就再試，試到解決為止…”

　　王岸然毫不客氣，作為投資人，他是來發布命令的，而不是跟你討價還價。

　　浸沒式光刻機肯定是未來的方向，而且波長越長，通過折射后，縮微的效果越明顯。

　　況且，光刻機的波長并能完全決定芯片的制程，通過特定的曝光方式也可以提高制程。

　　事實證明，193納米的紫光光源，也可以進行65納米芯片工藝的生產。

　　以前世對半導體芯片制造的理解，浸沒式光刻，多重曝光方式能夠取得進步的話，完全可以將這臺東芝的二手貨，改造成一臺可以生產800納米工藝的芯片加工廠，甚至更為先進的320納米工藝也不是不可能。

　　只不過芯片生產的效率，肯定會差很多，但至少說明一點，我們掌握了這項技術。

　　而且通過這一過程，華芯科技還可以積累這部分的專利，在ASML前面設置一套專利壁壘。

　　至于這套專利有什么用，王岸然無法評估，按照他的估計，到那個時候，美利堅政府應該也會插手吧！

　　還有五年的時間，王岸然在紙上寫下磁懸浮雙工作臺，浸沒式光刻系統，兩大未來發展方向。

　　這次他不打算，光靠國內研究機構的力量。

　　“該到尋找外援的時候了！”